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将CPP膜经等离子体处理后,镭雕达因值测试不过关在放置不同时间后测量它的表面张力。经空气等离子体处理后CPP膜的表面张力随放置时间的延长而增大。表面张力随放置时间的延续而增加,表面能也必将随放置时间而有所变化。对于CPP来说,经空气处理电浆清洗机的时效变化与等离子体处理的时间关系不大。在最初的几个小时里表面能迅速下降,而后表面能下降幅度变缓,到放置24h后表面能就基本达到平衡状态,不再有大的变化。。

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同时,镭雕达因值测量采用先进的工艺控制系统(APC),根据曝光尺寸的变化动态调整光刻步骤得到了稳定一致的多晶硅栅特性尺寸。测量黄光处理后光学电阻的特征尺寸后,将其与目标值的差值反馈到多晶硅栅后续蚀刻的修整时间,称为前馈。这种反馈可以有效地消除黄光过程引起的光学电阻特征尺寸误差。

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